NB-900 型直读光谱仪
>> 主要技术指标
可检测基体 |
铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、钛基、镁基等 |
放电电流 |
最大400A |
光学系统 |
帕型-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统 |
工作电源 |
AC220V50/60Hz900W |
波长范围 |
140~680nm |
仪器尺寸 |
780*565*360mm |
光栅焦距 |
40mm |
仪器重量 |
约78kg |
探 测 器 |
高性能CMOS检测器阵列 |
检测时间 |
依据样品类型而定, 一般20S左右 |
光源类型 |
数字光源,高能预燃技术 |
电极类型 |
钨材喷射电极 |
其他功能 |
真空,温度,软件自动控压力,通讯监测 |
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应用领域 |
冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工 和回收工业中的各种分析。 |
>> 主要性能特点
■ 高性能光学系统:光学系统激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光学室,实现光路直通,有效的降低光路损 耗;采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量;测定结果精 准,重复性及长期稳定性极佳。
■ 自动光路校准:自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作; 仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定。
■ 插拔式透镜设计:真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离,可在真空系统工作状态下进行操作,光学透镜 采用插拔式透镜结构,日常清洗维护方便快捷。
■ 真空室一体化:独特的光室结构设计,使真空室容积更小,抽真空时间仅普通光谱仪的1/2;真空室一体化设计 及高精密的加工,使真空保持的更加持久。
■ 真空防返油技术:多级隔离的真空防返油技术,采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全 隔离;中间增加了真空滤油装置,确保真空泵中油不进入真空室,保障CMOS 检测器及光学元件在可靠环境中 工作。
开放式激发台:开放式激发台机灵活的样品夹设计,以满足客户现场的各种形状大小的样品分析; 配合使用小样品夹具,线材最低分析可达到3mm。
■ 喷射电极技术: 采用国际最先进的喷射电极技术,使用钨材料电极,在激发状态下,电极周围会形成氩气喷射 气流,这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触,提高激发精度;配上独特氩气气路设计,大大降低 了氩气使用量,也降低客户使用成本。